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產品名稱:

自動供酸系統(CDS)-CSE

上市日期: 2016-03-07

自動供系統(CDS)-南通華林科納CSE

Chemical Dispense System System?

南通華林科納半導體CSE-CDS自動供酸系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等

主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。
控制模式:手動控制模式、自動控制模式

自動供酸系統(CDS)-CSE01.jpg

設備名稱

南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統

設備型號

CSE-CDS-N1507

設計基準

1.供液系統Chemical Dispense System System簡稱:CDS

2. CDS?將設置于化學房內酸堿溶液CDS?系統要求放置防腐性的化學房

3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質

4. 系統為采以化學原液?雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點

5. 過濾器:配有10”?PFA材質過濾器外殼

6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺?PTFE材質的進口隔膜泵

7. Empty Sensor & Level Sensor:

酸堿類采用一般型靜電容近接開關

8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。

CDS系統設備規格

?

1. 系統主要功能概述

設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;

系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;

2. 操作模式:

?CDS?系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,

兼具自動化與親和力。

在自動模式情形下可自行達成供酸之功能。

在手動模式及維修模式底下可針對單一自動元件操作。

3. 設備結構:

(1)機架(Frame):盤底SUS 方管50x50x1.5T 與機體以SUS 方管38x38x1.5T方管,全周焊架構而成,具有調整腳座。

(2)外觀:酸堿類系統的外觀以WPP 被覆。

(3)?箱體

(一)?箱體材質型式

供腐蝕性化學品用之材質為WPP/ 透明PVC。

(二)?閥體材質型式

.供腐蝕性化學品用之材質為PFA或PTFE。

(三)?泄漏偵測型式

采靜電容式或光電式,須能耐酸鹼之浸泡。

(四)?分流箱(VMB)必要設施說明

箱體外部須清楚標示其所輸送化學品之名稱與化學式。

?4. 設備內部空間規劃:

(1)配管區:管路流程整齊清楚,操作方便,具有防止噴濺及承接并排放泄漏功能。

(2)電控區:完全密封,可防止酸氣侵蝕電控元件。

(3)取樣區:取樣方便具有防止酸液噴濺及排放泄漏功能。

(4)桶槽區:方便更換桶槽,并有鏈條防止桶槽滑動,有正壓及排氣功能,保持區域內之潔凈度,下方有排放泄漏功能。

5. 電控系統︰

(1)空間規劃︰完全與酸氣隔離的獨立空間并有N2 Purge 功能,從后方有寬大維修空間。

(2)重要元件︰

PLC: OMRON

GP: 10” OMRON Touch

Empty Sensor & Level Sensor:采用靜電容近接開關

6. 附屬裝置:

(1)排氣裝置︰每一個Unit 皆配備排氣裝置

(2)每一個Unit 皆配備一組DIW GUN.

7. 安全保護裝置:

(1)漏電斷電斷路保護裝置

(2)機臺底部漏液檢知裝置

(3)電控箱正壓裝置

(4)E.M.O.裝置

8. 適用條件:

所有設備均應滿足以下條件;

裝置場所: 室內。

標高: 海平面1000 公尺以下。

環境溫度: 最高30℃,最低0℃,平均30℃。

相對濕度: 最大90 ﹪。

設備制造商

南通華林科納半導體設備有限公司 www.hortport.com?400-8768-09618913575037

更多CDS自動供酸系統可以關注南通華林科納半導體設備官網www.hortport.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供自動供液系統的相關方案

自動供酸系統(CDS)


設備用途:本系統主要用于濕法腐蝕清洗等工序需要使用的腐蝕液集中進行配送,經營道配送至使用端;具有自動化程度高、配比精準、操作簡便等特點,具有耐腐蝕性。
適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等
控制模式:手動控制模式、自動控制模式

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2016 - 03 - 07
自動供酸系統(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供酸系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內...
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